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華銀HVS-50/200HV-5/HVS-1000A維氏硬度計HVS-50型數(shù)顯維氏硬度計HV-1000A型顯微硬度計HVS-1000B型數(shù)顯顯微硬度計HV-1000B型顯微硬度計HVS-1000A型數(shù)顯顯微硬度計200HV-5型小負荷維氏硬度計
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應用領域 | 電子 |
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華銀HVS-50/200HV-5/HVS-1000A維氏硬度計
HVS-50型數(shù)顯維氏硬度計
主要特點:
無摩擦主軸,試驗力精度高;
數(shù)字式壓痕自動測量系統(tǒng);
試驗過程自動化,無人為操作誤差;
大型LCD液晶顯示屏,菜單操作,功能齊全;
自動數(shù)字顯示,無人為讀數(shù)誤差;
隨機打印機打印硬度測試結果;
精度符合GB/T4340.2 ISO6507-2和美國ASTM E92.
應用范圍;
滲氮層、陶瓷、鋼、有色金屬;
薄板、金屬薄片、電鍍層、微小試件;
應用范圍廣,特別適用于平行平面的精密測量。
技術參數(shù)
測量范圍 5-2900HV
試驗力 9.807 49.03 98.07 196.1 294.2 490.3牛頓
(1 5 10 20 30 50公斤力)
試樣允許大高度過 180毫米
壓頭中心至機壁距離 125毫米
測量系統(tǒng)放大倍率 125倍,250倍
小檢測單位 0.06微米
電源 交流220伏,50/60赫茲
外形尺寸 580*260*730毫米
重量 約90千克
標準配備:
大平試臺、小平試臺、V型試臺:各1個
金剛石角錐壓頭:1只
標準維氏硬度塊:3塊
打印機:1個
HV-1000A型顯微硬度計
主要特點:
自動轉塔;
無摩擦主軸,試驗力精度高;
高精度光學測量系統(tǒng),精密座標試臺;
中/英文界面轉換;
試驗過程自動化,操作簡單,無人為操作誤差;
可選配努氏壓頭進行努氏硬度試驗;
可選配CCD攝像裝置及圖像處理系統(tǒng);
精度符合GB/T4340.2 ISO6507-2和美國ASTM E384。
應用范圍:
滲碳層、陶瓷、鋼、有色金屬;
薄板、金屬薄片、電鍍層、微小試件;
氮化層、滲碳層和淬火硬化層的深度測量;
適用于平行平面和微小零件及超薄零件的精密顯微維氏硬度測量。
主要技術規(guī)格
測量范圍 5-3000HV
試驗力 0.09807、0.2452、0.4903、0.9807、1.961、2.942、4.604、9.807牛頓
(10、25、50、100、200、300、500、1000克力)
硬度標尺 HV0.01、HV0.025、HV0.05、HV0.1、HV0.2、HV0.3、HV0.5、HV1
總放大倍率: 400X(測量)、100X(觀察)
分辨率:0.25um
測量范圍 200um
精度 符合GB/T4340.2--1999
試樣允許大高度: 75mm
壓頭中心至機壁距離:110mm
電源 交流220伏,50/60赫茲
外形尺寸 470*320*500mm
重量 約40千克
標準配備:
座標試臺、 細軸試臺、薄板試臺:各1個 平口鉗:1個
大V形塊、小V形塊:各1個 金剛石角錐壓頭:1個 標準顯微硬度塊:2塊
HVS-1000B型數(shù)顯顯微硬度計
主要特點:
手動轉塔;
無摩擦主軸,試驗力精度高;
高精度光學測量系統(tǒng),精密坐標試臺;
中/英文界面轉換;
各種硬度值轉換;
試驗過程自動化,操作簡單,無人為操作誤差;
RS232數(shù)據(jù)接口;
可選配努氏壓頭進行努氏硬度試驗;
可選配CCD攝像裝置及圖像處理系統(tǒng);
精度符合GB/T4340.2 ISO6507-2和美國ASTM E384.
應用范圍:
滲氮層、陶瓷、鋼、有色金屬;
薄板、金屬薄片、電鍍層、微波試件;
碳化層、脫碳層和淬火硬化層的深度測量;
適用于平行平面和微波零件及超薄零件的精密維氏測量。
主要技術規(guī)格:
測量范圍:5-3000HV
試驗力:0.09807 0.2452 0.4903 0.9807 1.961 2.942 4.904 9.807N(10 25 50 100 200 300 500 1000克力)
硬度標尺:HV0.01 HV0.025 HV0.05 HV0.1 HV0.2 HV0.3 HV0.5 HV1
測量系統(tǒng)放大倍率:400X(測量) 100X(觀察)
小檢測單位:0.01um
試樣允許大高度:75mm
壓頭中心至機壁距離:110mm
電源:AC220V,50/60HZ
外型尺寸:470*320*500mm
重量:約40kg
標準配備:
座標試臺:1個 細軸試臺:1個 薄板試臺:1個
平口鉗:1個 大V型塊、小V型塊:各1個
金剛石角錐壓頭:1個 標準顯微硬度塊:2塊 打印機:1個
HV-1000B型顯微硬度計
主要特點:
手動轉塔;
無摩擦主軸,試驗力精度高;
高精度光學測量系統(tǒng),精密座標試臺;
中/英文界面轉換;
試驗過程自動化,操作簡單,無人為操作誤差;
可選配努氏壓頭進行努氏硬度試驗;
可選配CCD攝像裝置及圖像處理系統(tǒng);
精度符合GB/T4340.2 ISO6507-2和美國ASTM E384。
應用范圍:
滲碳層、陶瓷、鋼、有色金屬;
薄板、金屬薄片、電鍍層、微小試件;
氮化層、滲碳層和淬火硬化層的深度測量;
適用于平行平面和微小零件及超薄零件的精密顯微維氏硬度測量。
硬度范圍 5-3000HV
試驗力 0.09807、0.2452、0.4903、0.9807、1.961、2.942、4.903、9.807牛頓
(10、25、50、100、200、300、500、1000克力)
硬度標尺 HV0.01、HV0.025、HV0.05、HV0.1、HV0.2、HV0.3、HV0.5、HV1
總放大倍率: 400X(測量)、100X(觀察)
分辨率:0.25um
測量范圍 200um
精度 符合GB/T4340.2--1999
試樣允許大高度: 75mm
壓頭中心至機壁距離:110mm
電源 交流220伏,50/60赫茲
外形尺寸 470*320*500mm
重量 約40千克
標準配備:
座標試臺:(臺面尺寸100*100mm、行程25*25mm、測微頭分度值0.01mm)1個
細軸試臺:1個 薄板試臺:1個 平口鉗:1個 大、小V型塊:各1個
金剛石角錐壓頭:1個 標準顯微硬度塊:2塊
HVS-1000A型數(shù)顯顯微硬度計
主要特點:
自動轉塔;
無摩擦主軸,試驗力精度高;
高精度光學測量系統(tǒng),精密坐標試臺;
中/英文界面轉換;
各種硬度值轉換;
試驗過程自動化,操作簡單,無人為操作誤差;
RS232數(shù)據(jù)接口;
可選配努氏壓頭進行努氏硬度試驗;
可選配CCD攝像裝置及圖像處理系統(tǒng);
精度符合GB/T4340.2 ISO6507-2和美國ASTM E384.
應用范圍:
滲氮層、陶瓷、鋼、有色金屬;
薄板、金屬薄片、電鍍層、微波試件;
碳化層、脫碳層和淬火硬化層的深度測量;
適用于平行平面和微波零件及超薄零件的精密維氏測量。
主要技術規(guī)格:
測量范圍:5-3000HV
試驗力:0.09807 0.2452 0.1903 0.9807 1.961 2.942 4.904 9.807N(10 25 50 100 200 300 500 1000克力)
硬度標尺:HV0.01 HV0.025 HV0.05 HV0.1 HV0.2 HV0.3 HV0.5 HV1
測量系統(tǒng)放大倍率:400X(測量) 100X(觀察)
小檢測單位:0.01um
試樣允許大高度:75mm
壓頭中心至機壁距離:110mm
電源:AC220V,50/60HZ
外型尺寸:470*320*500mm
重量:約40kg
標準配備:
座標試臺:1個 細軸試臺:1個 薄板試臺:1個
平口鉗:1個 大V型塊、小V型塊:各1個
金剛石角錐壓頭:1個 標準顯微硬度塊:2塊 打印機:1個
任選配置:
努普壓頭 CCD維氏圖像處理系統(tǒng)
200HV-5型小負荷維氏硬度計
主要特點:
砝碼直接加荷,試驗力精度高;
高精度光學測量系統(tǒng);
可選配CCD圖像處理系統(tǒng);
試驗力覆蓋顯微及維氏試驗要求;
試驗過程自動化,無人為操作誤差;
配備精密坐標試臺;
精度符合GB/T4340.2 ISO6507-2和美國ASTM E92.
應用范圍:
滲氮層、陶瓷、鋼、有色金屬;
薄板、金屬薄片、電鍍層、微小試件;
碳化層、脫碳層和淬火硬化層的深度測量;
適用于平行平面和微小零件及超薄零件的精密維氏測量。
主要技術規(guī)格:
測量范圍 5—3000HV
試驗力 1.961、2.942、4.903、9.807、19.61、24.52、29.42、49.03牛頓
(0.2、0.3、0.5、1、2、2.5、3、5公斤力)
試樣允許大高度 130mm
壓頭中心至機壁距離 110mm
座標試臺尺寸:100*100mm
座標試臺行程:25*25mm
測量系統(tǒng)放大倍率 400倍,100倍
小檢測單位 0.25微米
電源 交流220伏,50/60赫茲
外形尺寸 486*337*657mm
重量 約68千克
標準配備:
座標試臺:1個 細軸試臺:1個 薄板試臺:1個 平口鉗:1個
大V形塊:1個 小V型塊:1個 金剛石角錐壓頭:1只
標準維氏硬度塊:2塊 標準顯微硬度塊:1塊
電子計算器:1個
華銀HVS-50/200HV-5/HVS-1000A維氏硬度計